最近客户提到的等离子体清洗造成材料表面的溅射损伤问题。实际上，只要能量控制合适，轻度的表面损伤反而可以极大地增强附着力，在某些情况下成为不可或缺的工艺，如：用 Ar 等离子体去除一些材料表面氧化物。当然，一些工艺试验表明 , 采用分步工艺法进行清洗 , 可以把这种损伤减小到最低程度。

另外 , 国内外早已经展开了对等离子体清洗残余物毒性的深入研究。等离子清洗设备和工艺以其在健康、环保、效益、安全等诸多方面的优势逐步取代湿法清洗工艺，特别是在精密件清洗和新半导体材料研究和集成电路器件制造业中，等离子清洗应用前景广阔。

我们针对等离子清洗的工艺也已经进行了一定研究，持续改善是诚峰智造企业文化的精髓，我们和国内外同行就Plasma干法清洗工艺一直进行探讨和交流，通力合作朝着Plasma最尖端技术前进。